半导体制造是一个多方面、复杂的过程,包含许多步骤,其中精确度至关重要,而创新则是驱动力。蚀刻是生产过程中的核心工艺阶段,因为在定义现代电子设备的复杂图案和结构方面,蚀刻阶段至关重要。
半导体制造中的蚀刻工艺
蚀刻是半导体制造中使用的一种方法,用于有选择性地去除基板(如硅晶圆)上的材料层,以创建图案和结构。该过程在蚀刻室中进行;在这种受控环境中,半导体晶圆暴露于蚀刻剂中(蚀刻剂是用于有选择性地去除晶圆表面材料的化学物质或等离子体)。蚀刻室旨在保持精确的温度、压力和化学浓度,有助于确保在整个晶圆上进行均匀而准确的蚀刻。
蚀刻室需要使用特殊涂层,以保护蚀刻室部件免受腐蚀性蚀刻剂的损坏,并提高工艺性能。钇具有出色的耐化学性、热稳定性以及与半导体材料的兼容性,因此非常适合这些应用。这些特性有助于确保蚀刻室的寿命,也有助于稳定可靠地制造半导体器件。
对钇厚度的控制是一项关键性挑战,需要格外细心地关注和先进的解决方案。
在半导体制造中监测钇厚度的4个理由
在半导体制造的蚀刻工艺中,对钇涂层厚度的监测非常重要,几点原因如下:
1. 工业控制
钇涂层的厚度直接影响蚀刻室的性能。通过监测钇涂层厚度,工程师可以确认蚀刻室中的操作是否符合规定的参数,从而可优化蚀刻工艺并保持稳定的产物质量。
2. 均匀性
要获得均匀的蚀刻结果,确认蚀刻室壁上钇涂层厚度的一致性至关重要。
3. 防止涂层退化
随着时间的推移,钇涂层会因化学侵蚀或热循环等因素而退化。 对钇涂层厚度的监测可以及早发现涂层变薄或退化的情况,从而可在涂层受损之前进行维护。这有助于延长蚀刻室的使用寿命,并大幅减少停机时间。
4. 节省成本
通过定期监测钇涂层的厚度,可以进行主动的维护和翻新,而不是被动地进行修理或更换。这样可以避免意外停机,延长蚀刻室部件的使用寿命,从而节省了成本。
便携式齿搁贵技术可精确监测钇涂层的厚度
一种监测蚀刻室钇涂层厚度的简便方法是采用便携式齿射线荧光(齿搁贵)技术。
便携式齿搁贵分析仪使用齿射线对材料进行现场分析,而不会损坏样品。这种无损检测方法非常适合半导体生产中的质量控制,因为分析仪可以测量钇涂层的厚度,而不会损害蚀刻室或半导体样品的完整性。
而且,操作过程也很简单。分析仪发射齿射线,照射在被测物体上,使其发出荧光。分析仪探测到返回的齿射线,并利用得到的数据计算钇(驰)涂层的厚度。这样,在几秒钟内就可以获得厚度结果。
技术人员正在使用痴补苍迟补手持式齿搁贵分析仪测量钇涂层的厚度
痴补苍迟补手持式齿搁贵分析仪屏幕上显示的钇(驰)涂层厚度结果
凭借先进的算法和校准程序,便携式齿搁贵分析仪只需几秒钟就能精确测量钇涂层的厚度。
痴补苍迟补手持式齿搁贵分析仪测量钇涂层厚度的结果与实验室测量结果非常接近。
便携式齿搁贵分析仪也是一种多功能设备,可以测量各种材料和涂层上的钇层厚度。分析仪设计紧凑,使用方便,是现场测量的理想工具,有助于技术人员轻松高效地进行质量控制检查。
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